是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程.在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求.常用的镀膜法有真空镀膜和化学镀膜.
①真空镀膜:真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等多种涂料,所以,蒸发和溅射有两种主要类型.将被镀材料制成基材,将电镀材料用作靶材或药材.衬底处于与靶相同的真空中.
蒸发涂层通常是加热目标,以使表面组分以自由基或离子的形式蒸发,并通过成膜方法(散射岛结构 - 梯形结构 - 层状生长)沉积在基材的表面上,薄膜.
②对于溅射状涂层,很容易理解目标材料是用电子或高能激光器轰击的,表面组分以自由基或离子的形式溅射,最后沉积在基底表面上最终形成一个薄膜.
光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割,膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的,可以是透明介质,也可以是光学薄膜
吸收介质:可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的,实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多,这是因为,制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,其表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫散射,膜层之间的相互渗透形成扩散界面,由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性,膜层具有复杂的时间效应.
稀有金属,无毒无放射性,主要用于半导体工业塑料工业,红外光学器件,航天工业,光纤通讯等.透光范围2000NM--- 14000NM,n=4甚至更大.
有时用在分光镜上并且通常用作胶质层来增强附着力,胶质层可能在550NM的范围内,但在铝镜膜导下面,30NM是增强附着力的有效值.
在紫外域中它是普通金属中反射性能最好的一种,其膜的有效厚度为50NM以上.
如果蒸发速度足够快并且基板温度不很高时,银和铝一样具有良好的反射性,这是在高速低温下大量集结的结果,这一集结同时导致更大的吸收.
2、氧化物类 :三氧化二钇、二氧化铈、氧化镁、二氧化钛、二氧化硅、一氧化硅、二氧化锆、三氧化二铝、氧化铪等.
使用电子枪蒸镀,该材料性能随膜厚而变化,在500nm时折射率约为1.8.用作铝保护膜其极受欢迎,特别相对于800-12000nm区域高入射角而言,可用作眼镜保护膜,且24小时暴露于湿气中.
使用高密度的钨舟皿蒸发,在200°C的基板上蒸着二氧化铈,得到--个约为2.2的折射率,在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显着变化,用氧离子助镀可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜.
折射率为2.21,500nm的透光范围,由于它的高折射率和相对坚固性,人们喜欢把这种高折射率材料用于防反膜,分光膜,冷光膜,滤光片,高反膜,眼镜膜,热反射镜等.
无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好.纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点.按使用要求分为紫外、红外及可见光用.如果压力过大,薄膜将有气孔并且易碎,相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大.
白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高质量氧化锆镀膜,不出崩点,影响一面平面透镜的透光度有许多成因.镜面的粗糙度会造成入射光的漫射,降低镜片的透光率.此外材质的吸旋光性,也会造成某些入射光源的其中部分频率消散的特别严重.例如会吸收红色光的材质看起来就呈现绿色.不过这些加工不良的因素都可以尽可能地去除.
在150摄氏度的基板上有用电子枪蒸着,折射率在2.0左右,用氧离子助镀可能取和得2.05- -2.1 稳定的折射率,在8000- - 12000NM区HFO2用作铝保护膜外层好过SiO2.
其中氟化镁材料特点:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制备光学镀膜可提高透过率,不出崩点.
作为1/4波厚抗反射膜普遍使用来作玻璃光学薄膜,且有大约120NM真实紫外线nm的中部红外线区域里透过性能良好.
它们的局限性都是缺乏完全致密性.透过性在高温时移到更长的波长,所以目前它们只能用在红外膜.
在UV中可用作高折射率材料,在300nm时N=1.998,该材料与钼钽,钨舟接触时折射率将降低,因此需要用铂或陶瓷皿.
折射率为2.35,400-13000m的透光范围,具有良好的应力和良好的环境耐久性.主要应用于分光膜,冷光膜,装饰膜,滤光片,高反膜,红外膜.
是一种具有高折射率的IR材料,作为薄膜材料在300--4000NM是透明的,在红外区N=5.1-5.5,该材料升华,基板板温度250摄氏度是有益的,健康预防是必要的,在高达40000NM时使用效果很好,别的材料常常用在超过普通的14000NM红外线边缘.返回搜狐，查看更多
